RD320 型ラプチャーディスクとは

RD320型はファイク社が特許を取得している反転型のラプチャーディスクです。
RD320型は設定圧力の許容交差の下限の90％まで運転可能です。

RD320型はラプチャーディスクの中でG2テクノロジーとも呼ばれており、圧力を設定する際に機械加工を一切施しません。その為、従来のスコアラインのような使用する毎に疲労していく箇所がプロセス側に存在しないのでサイクル運転やパルスに強く、最大で1万回を超えるサイクルにも使用可能です。

                  

                  

主な特徴

• 許容公差の下限に対して90％までの圧力で運転可能です
• 金属単板構造で低圧破裂圧を実現
• 低圧域での破裂公差が狭く、より設定圧力に近い値で破裂します
• 破片の飛散がありません
• バキュームサポート無しでフルバキュームまで使用できます
• 液体、ガス、べーパーはもちろんどんな流体にも使用できます
• 製造範囲がなく標準でゼロレンジになります
• サイクル運転やパルスに強い
• 標準材質はステンレス、ハステロイC276、インコネル625で1〜12インチまでの口径にて製作可能です
• 設定可能温度はステンレス、ハステロイC276は482℃、インコネル625は593℃までとなります
• 1 ¹/₂インチを除いてファイク製SRL型ホルダーと互換性があります
• 設定破裂圧力までの背圧に耐えることができます
• RD520 AXIUS型と同じホルダーを使用
• 三次元タグ＆位置決めタブ付き
  • リングを使用することでリーク量を1X10^-6Acc/sec（1X10^-7Pam³/sec）以下にてシールできます（ヘリウムリークテストによる）

O-リング：リークの許されないプロセスに最適

RD320型のホルダーは、メタルタッチによる締め付け圧力でラプチャーディスクをシールします。シール性についてはヘリウムリークテストにて 1×10^-4Acc/sec（1×10^-5Pam³/sec）以下のリーク量となります。

また、リークの許されないプロセスにRD320型ラプチャーディスクを使用する場合は、オプションとしてO-リングホルダーを用意しています。O-リングホルダーを使用した場合のシール性はヘリウムリークテストにて 1×10^-6Acc/sec（1×10^-7Pam³/sec）以下のリーク量となります。

なお、O-リングはバイトン製とテフロン包みバイトン製があります。
O-リングの最低使用温度は-26.1℃、最高使用温度は232℃となります。