ポイントは、高活性の粉体を外部で放出されて曝露被害を予防することです。

流動層乾燥機であれば、まず最初に1200kPaG設計圧力を持った対爆設計品を選定すべきです。次に上流下流に機械式（化学式でないの意味）の爆発遮断装置を設けることになります。
流動層乾燥機でそのまでの耐圧を持たすことができない場合は、爆発抑止システムを使用します。

集じん機については、そもそも高い設計圧を持たせることはできないので、爆発抑止システムを設置します。爆発抑止システムを使用する場合は、上流下流の爆発遮断は機械式遮断だけでなく、化学式遮断であるケミカルアイソレーションも使用可能となります。